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產(chǎn)品中心
產(chǎn)品詳情

  • 產(chǎn)品名稱：SAMCO ALD 設(shè)備 AL-1 原子層沉積設(shè)備

  • 產(chǎn)品型號：
  • 產(chǎn)品廠商：SAMCO薩姆肯
  • 產(chǎn)品價格：0
  • 折扣價格：0
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簡單介紹：
通過提供具有數(shù)十毫秒級良好沉積效率 的脈沖，減少了原材料的損耗，提高了沉積效率。
詳情介紹：

概述

AL-1通過交替向反應(yīng)室提供有機金屬原料和氧化劑，僅利用表面反應(yīng)進行成膜，實現(xiàn)了高薄膜厚度控制和良好的階梯涂層性能。 薄膜厚度可按原子層順序控制。 此外，高縱橫比的孔內(nèi)壁具有良好的覆蓋性，可以均勻地沉積在薄膜厚度上。 在有機金屬材料中使用TMA和使用H_O作為反應(yīng)劑的氧化鋁（AlOx）膜，在350°C的沉積溫度下具有7.5MV/cm的高擊穿強度，可作為下一代功率器件的柵極高壓膜應(yīng)用。 ? 4 英寸晶圓 × 可同時形成三個晶圓。

特點

通過提供具有數(shù)十毫秒級良好沉積效率
的脈沖，減少了原材料的損耗，提高了沉積效率。

與清潔真空
反應(yīng)室內(nèi)壁緊密接觸的內(nèi)壁加熱器可抑制反應(yīng)室內(nèi)的溫度不均勻性，從而獲得清潔的真空。

無針孔的成膜
設(shè)計使多個原料氣體不混合在反應(yīng)室內(nèi)，從而防止顆粒的產(chǎn)生，形成無針孔的膜。

應(yīng)用示例

下一代功率器件的柵極氧化膜和鈍化膜

在三維結(jié)構(gòu)（如 MEMS）上均勻沉積

激光諧振器端面的沉積

碳納米管保護膜

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