文了解光學(xué)測(cè)量設(shè)備——HORIBA堀場(chǎng)橢偏儀

器件的制造是通過(guò)一系列**控制的加工工藝完成的，為了保證每步工序都能正確地進(jìn)行，在每一個(gè)工藝步驟中都有許多測(cè)量和監(jiān)控技術(shù)，其中光學(xué)測(cè)量由于其非接觸、無(wú)破壞、無(wú)污染的特點(diǎn)被廣泛使用。

其中，光學(xué)測(cè)量的一項(xiàng)重要內(nèi)容是薄膜特性———例如厚度和光學(xué)性質(zhì)。目前，常用的光學(xué)測(cè)量技術(shù)根據(jù)其原理可分為: 光吸收法、干涉監(jiān)控法、偏振光分析法等。

今天小編為大家介紹的這款橢偏儀采用偏振光分析法（也稱(chēng)為橢圓偏振光譜測(cè)量技術(shù)），該方法是利用偏振光在材料表面反射后，相應(yīng)偏振態(tài)的改變來(lái)測(cè)量該材料的光學(xué)性質(zhì)。

HORIBA堀場(chǎng)橢偏儀概況

橢偏儀是一種用于探測(cè)薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)以及材料微結(jié)構(gòu)的光學(xué)測(cè)量設(shè)備。由于并不與樣品接觸，對(duì)樣品沒(méi)有破壞且不需要真空，使得橢偏儀成為一種**吸引力的測(cè)量設(shè)備。

HORIBA堀場(chǎng)橢偏儀應(yīng)用

橢偏儀可測(cè)的材料包括：半導(dǎo)體、電介質(zhì)、聚合物、有機(jī)物、金屬、多層膜物質(zhì)。

橢偏儀涉及領(lǐng)域有：半導(dǎo)體、通訊、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、光學(xué)鍍膜、平板顯示器、科研、生物、醫(yī)藥等。

HORIBA堀場(chǎng)橢偏法測(cè)量?jī)?yōu)點(diǎn)

1、能測(cè)量很薄的膜(1nm)，且精度很高，比干涉法高1~2個(gè)數(shù)量級(jí)。

2、是一種無(wú)損測(cè)量，不必特別制備樣品，也不損壞樣品，比其他精密方法如稱(chēng)重法、定量化學(xué)分析法簡(jiǎn)便。

3、可同時(shí)測(cè)量膜的厚度、折射率以及吸收率。因此可以作為分析工具使用。

4、對(duì)一些表面結(jié)構(gòu)、表面過(guò)程和表面反應(yīng)相當(dāng)敏感，是研究表面物理的一種方法。

HORIBA堀場(chǎng)橢偏儀的分類(lèi)及介紹

橢偏儀按照測(cè)試原理的不同，主要分為消光式和光度式兩類(lèi)。大體可以分為PCSA 型消光式橢偏儀、旋轉(zhuǎn)偏振器件型橢偏儀、相位調(diào)制型橢偏儀、橢偏光譜儀、紅外橢偏光譜儀、成像橢偏儀和廣義橢偏儀。

HORIBA堀場(chǎng)橢偏儀廠家介紹

今天，小編為大家介紹的這家橢偏儀廠家——HORIBA科學(xué)儀器事業(yè)部，公司總部自1953年成立，是一家分析檢測(cè)儀器和設(shè)備制造商，并且以其高精尖的產(chǎn)品成功地將市場(chǎng)拓展到了全球各個(gè)國(guó)家和地區(qū)。

HORIBA 研究級(jí)全自動(dòng)橢偏儀UVISEL 2

技術(shù)參數(shù)：

光譜范圍：190-2100 nm

8種光斑尺寸: 小35 X 85 um

探測(cè)器：3個(gè)獨(dú)立探測(cè)器，分別優(yōu)化紫外，可見(jiàn)和近紅外

自動(dòng)樣品臺(tái)尺寸：200mm X 200mm；XYZ方向自動(dòng)調(diào)節(jié); Z軸高度>35mm

樣品水平度自動(dòng)調(diào)整

自動(dòng)量角器：變角范圍35°- 90°，全自動(dòng)調(diào)整，小步長(zhǎng)0.01°

HORIBA一鍵式全自動(dòng)快速橢偏儀 Auto SE

主要特點(diǎn)

1. 液晶調(diào)制技術(shù)，無(wú)機(jī)械轉(zhuǎn)動(dòng)部件，重復(fù)性，信噪比高

2. 技術(shù)成像技術(shù)，所有樣品均可成像，對(duì)于透明樣品，自動(dòng)去除樣品的背反射信號(hào)，使得數(shù)據(jù)分析更簡(jiǎn)單

3. 反射式微光斑，覆蓋全譜段，利于非均勻樣品圖案化樣品測(cè)試

4. 全自動(dòng)集成度高，安裝維護(hù)簡(jiǎn)便

5. 一鍵式操作軟件，快速簡(jiǎn)單

6. 自動(dòng)MAPPING掃描，分析樣品鍍膜均勻性

技術(shù)參數(shù)

1. 光譜范圍：450-1000 nm

2. 多種微光斑自動(dòng)選擇

3. 光斑可視技術(shù)，可觀測(cè)任何樣品表面

4. 自動(dòng)樣品臺(tái)尺寸：200mmX200mm；XYZ方向自動(dòng)調(diào)節(jié); Z軸高度>35mm

5. 70度角入射

6. CCD探測(cè)器

HORIBA堀場(chǎng)科學(xué)儀器事業(yè)部：

HORIBA堀場(chǎng)高靈敏一體式熒光光譜儀FluoroMax -
HORIBA堀場(chǎng)模塊式熒光光譜儀Fluorolog-3
HORIBA堀場(chǎng)熒光光譜儀Aqualog
HORIBA 堀場(chǎng)原子力-拉曼聯(lián)用系統(tǒng)XploRA Nano
HORIBA 堀場(chǎng)多功能拉曼及成像光譜儀XploRA INV
HORIBA 堀場(chǎng)高速高分辨顯微共焦拉曼光譜儀LabRAM Odyssey
HORIBA堀場(chǎng)高靈敏一體熒光光譜儀FluoroMax-4
HORIBA堀場(chǎng)科研級(jí)熒光光譜儀 Fluorolog-3
HORIBA堀場(chǎng)模塊化科研級(jí)穩(wěn)瞬態(tài)熒光光譜儀Fluorolog-QM
HORIBA堀場(chǎng)OEM光譜儀VS7000


HORIBA堀場(chǎng)科學(xué)儀器事業(yè)部激光粒度儀：
HORIBA堀場(chǎng)激光粒度分布分析儀 LA-300
HORIBA堀場(chǎng)激光散射粒徑分布分析儀LA-350
HORIBA堀場(chǎng)激光粒度儀 LA-960 V2
HORIBA堀場(chǎng)緊湊型激光粒度儀Partica mini LA-350
HORIBA堀場(chǎng)真空紫外光譜儀.VTM300

HORIBA堀場(chǎng)納米顆粒分析儀 SZ-100 V2
HORIBA堀場(chǎng)納米顆粒追蹤分析儀

HORIBA堀場(chǎng)科學(xué)儀器事業(yè)部：

HORIBA堀場(chǎng)紅外碳硫分析儀EMIA-820V
HORIBA堀場(chǎng)可調(diào)單色光源Tunable PowerArc
HORIBA堀場(chǎng)探測(cè)器IGA array
HORIBA 堀場(chǎng)探測(cè)器
HORIBA堀場(chǎng)探測(cè)器Synapse CCD
HORIBA堀場(chǎng)在線橢偏儀 In-situ series
HORIBA 堀場(chǎng)智能型多功能橢偏儀Smart SE
HORIBA 堀場(chǎng)研究級(jí)全自動(dòng)橢偏儀UVISEL 2
HORIBA 堀場(chǎng)表面等離子體共振成像儀OpenPlex
HORIBA堀場(chǎng)一鍵式全自動(dòng)快速橢偏儀