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    • 它是一種通過使用顯微光譜測量微小區(qū)域內(nèi)的優(yōu)良反射率,實(shí)現(xiàn)高精度膜厚和光學(xué)常數(shù)分析的設(shè)備。 可以以非破壞性和非接觸的方式測量各種薄膜、晶片、光學(xué)材料和多層薄膜等鍍膜的厚度??蛇M(jìn)行1秒/點(diǎn)測量時(shí)間的高速測量。它還配備了軟件,即使是初學(xué)者也可以輕松分析光學(xué)常數(shù)。
    • 能夠從低亮度到高亮度進(jìn)行高速、高精度測量的光譜輻射亮度計(jì)。 大冢電子獨(dú)特的光譜光學(xué)設(shè)計(jì)和信號(hào)處理電路采用電子冷卻線陣傳感器,實(shí)現(xiàn)了在寬亮度范圍和波長范圍內(nèi)的低噪聲和高精度測量。
    • 支持紫外到近紅外區(qū)域的多功能多通道光譜檢測器。光譜光譜可以在*少 5 ms 內(nèi)測量。標(biāo)準(zhǔn)光纖可以在不指定樣品類型的情況下支持各種測量系統(tǒng)。除了顯微光譜、光源發(fā)射、透射/反射測量外,還可以通過結(jié)合軟件支持物體顏色評(píng)估、膜厚測量等。
    • 它是一種可以使用小角度光散射方法在原位實(shí)時(shí)分析聚合物和薄膜結(jié)構(gòu)的設(shè)備。與使用 X 射線或中子的設(shè)備相比,可以評(píng)估更大的結(jié)構(gòu)(微米級(jí))。
    • 可以使用單個(gè)設(shè)備分析不同的組分,例如陽離子和陰離子。 使用少量樣品即可進(jìn)行短時(shí)間、高分辨率的分析。
    • 可以通過靜態(tài)光散射法測量 dn/dc 來確定重均分子量。
    • 優(yōu)良分子量、慣性半徑和**維里系數(shù)可以使用靜態(tài)光散射方法測量。
    • 可以使用動(dòng)態(tài)光散射法和使用靜態(tài)光散射法測量優(yōu)良分子量/慣性半徑/**維里系數(shù)的粒度/粒度分布(粒度/粒度分布)。
    • ELSZneo通過光散射評(píng)估物理特性     進(jìn)入新階段]這是 ELSZ 系列的*高型號(hào),可測量稀溶液至濃溶液中的 zeta 電位和粒徑以及分子量。作為一項(xiàng)新功能,我們采用了多角度測量來提高粒度分布的分離能力。它還支持粒子濃度測量、微流變學(xué)測量和凝膠網(wǎng)絡(luò)分析。 新型 zeta 電位板單元具有新開發(fā)的高鹽濃度涂層,可在生理鹽水等高鹽濃度環(huán)境中進(jìn)行測量。我們還有一系列超痕量細(xì)胞單元,可以測量 3 μL 的粒徑,擴(kuò)展了生命科學(xué)領(lǐng)域的可能性。
    • 除了常規(guī)的zeta電位和粒度測量之外,它是一種可以用稀到濃溶液測量分子量的設(shè)備。 支持粒度測量范圍(0.6 nm 至 10 μm)和濃度范圍(0.00001% 至 40%)??梢允褂?小容量為 130 μL 或更大的一次性電池進(jìn)行測量,通過實(shí)際測量電滲流,可以實(shí)現(xiàn)高精度的 zeta 電位測量。 此外,通過在 0 至 90°C 的寬溫度范圍內(nèi)自動(dòng)進(jìn)行溫度梯度測量,可以進(jìn)行變性/相變溫度分析。
    • 本裝置是使用JIMRO株式會(huì)社的血細(xì)胞去除凈化器“Adacolumn”去除血液中的粒細(xì)胞和單核細(xì)胞,以低流量進(jìn)行體外血液循環(huán)的裝置。細(xì)胞。 (醫(yī)療器械批準(zhǔn)文號(hào)22800BZX00360000)
    • 超緊湊型**層析讀取器,非常適合即時(shí)檢測 (POCT)。
    • 3 C 使用帶有醫(yī)療設(shè)備的呼氣收集袋進(jìn)行測量,該醫(yī)療設(shè)備用于使用尿素制劑的尿素呼氣測試方法的呼氣分析。它利用了 碳同位素12 CO 2和13 CO 2之間吸收的差異。 (醫(yī)療器械批準(zhǔn)文號(hào):23000BZX00214000)
    • 是一種全自動(dòng)糞便人血紅蛋白分析儀,采用金膠體比色法準(zhǔn)確測定糞便人血紅蛋白。 (醫(yī)療器械通報(bào)號(hào)27B1X00055000008)
    • 在高精度薄膜分析的光譜橢偏儀之上,增加安裝了測量角度可自動(dòng)變化裝置,可對(duì)應(yīng)所有種類的薄膜。在傳統(tǒng)旋轉(zhuǎn)分析儀法之上,通過安裝相位差板自動(dòng)分離裝置,提高了測量精度。
    • 它是一種單獨(dú)評(píng)估光源或光學(xué)材料光分布的設(shè)備。 實(shí)現(xiàn)10分鐘的測量時(shí)間,顛覆分布測量常識(shí)! 僅一次測量可捕獲每個(gè)空間照度! 支持其他公司的光學(xué)設(shè)計(jì)軟件處理的數(shù)據(jù)格式! 設(shè)備尺寸緊湊, 1.5平方米角落即可收納! 也可輸出通用IES格式的配光數(shù)據(jù)! 從光源的光分布測量到透鏡和薄膜等材料的光學(xué)特性,擁有廣泛的測量評(píng)估范圍。
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