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  • 產(chǎn)品詳情
    • 產(chǎn)品名稱:日本DNK科研曝光機(jī)MA-5301ML光刻機(jī)

    • 產(chǎn)品型號: MA-5301ML
    • 產(chǎn)品廠商:DNK 科研
    • 產(chǎn)品價(jià)格:0
    • 折扣價(jià)格:0
    • 產(chǎn)品文檔:
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    簡單介紹:
    主要特長 搭載本公司開創(chuàng)的鏡面光學(xué)系統(tǒng)爆光燈房(LAMP HOUSE)。從而實(shí)現(xiàn)了照射面內(nèi)的均勻性以及高照度。 采用本公司開創(chuàng)的同軸對位方式和高速圖像處理技術(shù), 從而實(shí)現(xiàn)了高精度對位。還支持IR方式和背面方式。 通過本公司開創(chuàng)的光學(xué)式間隙傳感器,可在非接觸狀態(tài)下高速、精的設(shè)定掩膜和基板間的近接間隙。 搭載有掩膜更換機(jī)。*多可自動(dòng)更換20張掩膜。 *多可搭載3臺片倉(Load port)。
    詳情介紹:

    光刻機(jī)介紹

    曝光裝置  MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ~ ?6″ 

    光源 超高壓水銀燈 :500W or 1kW

    曝光裝置 MA-1400  基板追大尺寸400 x 400mm

    光源 超高壓水銀燈 :2kW or 3.5kW

    LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2~4″或者?4~6″

    光源 超高壓汞燈:500W 或 1kW

    ?200mm/?150 mm 對應(yīng)曝光裝置MA-4301M   材料SI 玻璃, 對齊精度自動(dòng)對齊:+/- 1 μm(
    峰值搜索)

    ?300mm對應(yīng)曝光裝置MA-5301ML  光源超高壓汞燈:3.5kW  ?200mm規(guī)格也可對應(yīng)

    マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量(※3)245/70/245+70
    マスクレス露光裝置MX-1201E  曝光掃描速度22.5mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量(※3)460/70135

    マスクレス露光裝置MX-1205  曝光掃描速度9/4.5mm/s  有效曝光區(qū)域100 x 100 追大曝光量(※3)100/50

    主要規(guī)格

    MA-5301ML
    Wafer尺寸 ?300mm
    對位 非接觸預(yù)對位~自動(dòng)對位
    光源 超高壓水銀燈:3.5kW
    本體尺寸 W 2450 × D 2400 × H 2300 mm

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