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產品詳情
簡單介紹：
RIE-10NR 是一種平行平板反應離子蝕刻 （RIE）設備，用于各向異性加工各種硅薄膜，如 Si、Poly-Si、SiO_和 SiN。
詳情介紹：
概述
RIE-10NR 是一種平行平板反應離子蝕刻 （RIE）設備，用于各向異性加工各種硅薄膜，如 Si、Poly-Si、SiO_和 SiN。 該設備是一種經濟高效的 RIE 設備，可通過 PLC 控制存儲自動操作和過程參數(shù)。
特點
? 可加工 8 英寸晶圓
雖然這是一個緊湊的設計節(jié)省空間的設備，它允許加工高達±8英寸的晶圓。
自動駕駛
通過觸摸屏操作實現(xiàn)自動操作 ， 可通過PLC控制進行過程管理和數(shù)據(jù)記錄 。
豐富的交付記錄
自發(fā)布以來，該設備在改進的同時不斷發(fā)展，擁有 300 多臺記錄。
應用示例
? 各種硅薄膜的高精度蝕刻，如 Si、Poly-Si、SiO+ 和 SiN
半導體激光器的制造
缺陷分析
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