塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司上海代理OTSUKA大塚無(wú)損非接觸膜厚儀FE-300薄膜厚度計(jì)，通過(guò)操作簡(jiǎn)單的高精度光學(xué)干涉測(cè)量實(shí)現(xiàn)薄膜厚度測(cè)量。

OTSUKA大塚FE-300特長(zhǎng)

• 支持從薄膜到厚膜的各種膜厚

• 使用反射光譜的薄膜厚度分析

• 實(shí)現(xiàn)非接觸、非破壞的***測(cè)量，同時(shí)緊湊且價(jià)格低廉

• 簡(jiǎn)單的條件設(shè)置和測(cè)量操作！任何人都可以輕松測(cè)量薄膜厚度

• 可以通過(guò)峰谷法、頻率分析法、非線性***小二乘法、優(yōu)化法等進(jìn)行多種薄膜厚度測(cè)量。

• 通過(guò)非線性***小二乘膜厚分析算法可以進(jìn)行光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率，k：消光計(jì)數(shù)）。

測(cè)量項(xiàng)目

反射率測(cè)量

• 膜厚分析（10層）

• 光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率，k：消光計(jì)數(shù)）

測(cè)量對(duì)象

• 功能膜、塑料
  透明導(dǎo)電膜（ITO、銀納米線）、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合劑、粘合劑、保護(hù)膜、硬涂層、防指紋， ETC。

• 半導(dǎo)體
  化合物半導(dǎo)體、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、藍(lán)寶石等

• 表面處理
  DLC涂層、防銹劑、防霧劑等

• 光學(xué)材料
  濾光片、AR涂層等

• FPD
  LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有機(jī)膜、灌封膠）等

• 其他
  硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器、磁帶、建筑材料等。

測(cè)量原理

大冢電子使用光學(xué)干涉儀和我們自己的***分光光度計(jì)，實(shí)現(xiàn)了非接觸、無(wú)損、高速和***的薄膜厚度測(cè)量。光學(xué)干涉法是一種利用OTSUKA大塚FE-300分光光度計(jì)的光學(xué)系統(tǒng)獲得的反射率來(lái)確定光學(xué)膜厚的方法。以涂在金屬基材上的薄膜為例，如圖1所示，從目標(biāo)樣品上方入射的光被薄膜（R1）表面反射。此外，通過(guò)薄膜的光在基板（金屬）和薄膜界面（R2）處反射。測(cè)量此時(shí)由于光程差引起的相移引起的光學(xué)干涉現(xiàn)象，并根據(jù)得到的反射光譜和折射率計(jì)算膜厚的方法稱(chēng)為光學(xué)干涉法。分析方法有四種：峰谷法、頻率分析法、非線性***小二乘法和優(yōu)化法。