熱門搜索：
代理日本品牌：OTSUKA大塚電子（薄膜測(cè)厚儀、相位差膜設(shè)備等）、USHIO牛尾點(diǎn)光源、CCS檢查光源、Aitec艾泰克、REVOX萊寶克斯、ONOSOKKI小野測(cè)器、YAMATO雅馬拓、KOSAKA小坂臺(tái)階儀、SEN特殊光源、TSUBOSAKA壺坂電機(jī)、NEWKON新光、TOKISANGYO東機(jī)產(chǎn)業(yè)、tokyokeiso東京計(jì)裝、leimac雷馬克、MIKASA米卡薩勻膠機(jī)、COSMO科斯莫、SAKURAI櫻井無(wú)塵紙、TOE東京光電子、EYE巖崎UV燈管、SANKO山高、HOYA豪雅光源、日本IMV愛(ài)睦威地震儀、HOKUYO北陽(yáng)電機(jī)、SAKAGUCHI坂口電熱、ThreeBond三鍵膠水等.
產(chǎn)品中心
-
Stucchi思多奇
-
NITTO KOHKI日...
-
Sankei
-
KYOWA協(xié)和工業(yè)
- DIT東日技研
- AITEC艾泰克
-
SIGMAKOKI西格瑪...
- REVOX萊寶克斯
- CCS 希希愛(ài)視
- SIMCO思美高
- POLARI0N普拉瑞
- HOKUYO北陽(yáng)電機(jī)
- SSD西西蒂
- EMIC 愛(ài)美克
- TOFCO東富科
-
打印機(jī)
- HORIBA崛場(chǎng)
- OTSUKA大冢電子
- MITAKA三鷹
- EYE巖崎
- KOSAKA小坂
-
SAGADEN嵯峨電機(jī)
- TOKYO KEISO東...
- takikawa 日本瀧...
- Yamato雅馬拓
- sanko三高
- SEN特殊光源
-
SENSEZ 靜雄傳感器
- marktec碼科泰克
- KYOWA共和
- FUJICON富士
- SANKO山高
-
Sugiyama杉山電機(jī)
-
Osakavacuum大...
-
YAMARI 山里三洋
- ACE大流量計(jì)
- KEM京都電子
- imao今尾
- AND艾安得
- EYELA東京理化
- ANRITSU安立計(jì)器
- JIKCO 吉高
- NiKon 尼康
- DNK科研
- Nordson諾信
- PISCO匹斯克
- NS精密科學(xué)
- NDK 日本電色
-
山里YAMARI
- SND日新
-
Otsuka大塚電子
- kotohira琴平工業(yè)
- YAMABISHI山菱
- OMRON歐姆龍
- SAKURAI櫻井
- UNILAM優(yōu)尼光
-
氙氣閃光燈
-
UV反轉(zhuǎn)曝光系統(tǒng)
-
UV的水處理
-
檢測(cè)系統(tǒng)
-
光照射裝置
-
點(diǎn)光源曝光
-
變壓型電源供應(yīng)器
-
超高壓短弧汞燈
-
UV光洗凈
-
UV曝光裝置
-
uv固化裝置
-
紫外可見(jiàn)光光度計(jì)
熱門品牌展示
產(chǎn)品展示
-
主要特長(zhǎng) 能夠進(jìn)行節(jié)拍時(shí)間約20秒(標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格機(jī)，對(duì)位容許值設(shè)定為0.5μm時(shí)。不含曝光時(shí)間。)的高速曝光處理。 利用直讀式間隙傳感器與獨(dú)自的控制系統(tǒng),能夠高速度和高精度地設(shè)定掩膜與基板間的近接間隙 。 可配置嚴(yán)格控制處理部位溫度環(huán)境的溫控機(jī)房。為了防止因熱而引起的基板伸縮,還可選用基板臺(tái)溫度調(diào)控系統(tǒng)。 可選擇配置基板臺(tái)溫度控制系統(tǒng)及掩膜冷卻系統(tǒng)，以防止掩膜及玻璃基板因溫度差而引起的伸縮。(
-
主要特長(zhǎng) 能夠進(jìn)行節(jié)拍時(shí)間約20秒(標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格機(jī)，對(duì)位容許值設(shè)定為0.5μm時(shí)。不含曝光時(shí)間。)的高速曝光處理。 利用直讀式間隙傳感器與獨(dú)自的控制系統(tǒng),能夠高速度和高精度地設(shè)定掩膜與基板間的近接間隙 。 可配置嚴(yán)格控制處理部位溫度環(huán)境的溫控機(jī)房。為了防止因熱而引起的基板伸縮,還可選用基板臺(tái)溫度調(diào)控系統(tǒng)。 可選擇配置基板臺(tái)溫度控制系統(tǒng)及掩膜冷卻系統(tǒng)，以防止掩膜及玻璃基板因溫度差而引起的伸縮。(
-
主要特長(zhǎng) 能夠進(jìn)行節(jié)拍時(shí)間約20秒(標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格機(jī)，對(duì)位容許值設(shè)定為0.5μm時(shí)。不含曝光時(shí)間。)的高速曝光處理。 利用直讀式間隙傳感器與獨(dú)自的控制系統(tǒng),能夠高速度和高精度地設(shè)定掩膜與基板間的近接間隙 。 可配置嚴(yán)格控制處理部位溫度環(huán)境的溫控機(jī)房。為了防止因熱而引起的基板伸縮,還可選用基板臺(tái)溫度調(diào)控系統(tǒng)。 可選擇配置基板臺(tái)溫度控制系統(tǒng)及掩膜冷卻系統(tǒng)，以防止掩膜及玻璃基板因溫度差而引起的伸縮。(選購(gòu)項(xiàng)) 能夠裝載存放5張掩膜的掩膜存放庫(kù)
-
非常適用于實(shí)驗(yàn)?研發(fā)之用途。 緊湊型設(shè)計(jì)(600×600mm)，可在桌面上安裝使用。 搭載UV LED爆光燈房標(biāo)準(zhǔn)（有效曝光范圍φ4″）。 接觸式曝光模式（可支持其他的曝光模式，為選購(gòu)項(xiàng)）。 完全手動(dòng)操作，價(jià)格公道合理。
